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離子除(chú)臭設(shè)備

離子除臭設備(bèi)

離子除臭設備(bèi)是利用這些高能(néng)電子、自由基(jī)等活性粒子和廢氣中的汙染物作(zuò)用,使汙染物分子在短的時(shí)間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。
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  • 產品(pǐn)概述
  • 技術(shù)原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概(gài)述 Product description

產品概述

離子除臭設備是利用這些高(gāo)能電子、自(zì)由基等活性粒子和廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染(rǎn)物分子在短的時間內發生分(fèn)解,以(yǐ)達到降(jiàng)解汙染(rǎn)物的(de)目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述(shù)

  首先廢氣經均流板過濾棉進入(rù)設備時,由設備高壓(yā)穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣(qì)。此階段中(zhōng),長鏈、多鏈廢(fèi)氣分子由於鍵能較弱(ruò),約束力較小。很(hěn)容易被擊穿化學鍵破裂,從而變(biàn)成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基(jī)、臭氧分子等。這些強氧(yǎng)化基團與廢氣分子充分接觸氧(yǎng)化,加快反應進程(chéng)。整個反應幹淨(jìng),能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈(liàn)、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降(jiàng)解為較易處理的低碳汙(wū)染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品(pǐn)概(gài)述

從等離(lí)子體反應過程可以看出,電(diàn)子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲(huò)得(dé)能量的汙染物分子被激發,同時(shí)有部分(fèn)分子(zǐ)被電離,從(cóng)而成為活性基(jī)團。然後這些活性(xìng)基團與氧氣、活(huó)性基團(tuán)與活性(xìng)基團之間相互碰撞後(hòu)生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被(bèi)鹵(lǔ)素和氧氣(qì)等電子親和力較強的物質俘獲,成為負(fù)離(lí)子。這類負離子具有很(hěn)好的化學活性,在化學反應中起(qǐ)著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子(zǐ)體中,電子能量(liàng)高,幾乎可(kě)以(yǐ)和所有的惡臭氣體分子作(zuò)用(yòng);

  • 02

    反應快,不受氣速(sù)限製(zhì),氣(qì)阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕(shí)材(cái)料,電極(jí)與廢氣不直接接觸(chù),根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守(shǒu),基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停(tíng)止十分迅速,隨(suí)用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍(wéi) Scope of application

垃(lā)圾(jī)、汙水廠等市政設施,以及製(zhì)藥廠(chǎng)、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油(yóu)化工、農藥廠、製藥廠、印(yìn)刷廠、造紙廠、飼料加工廠等(děng)等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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