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低溫等離子（zǐ）除臭（chòu）設備

低溫等（děng）離子除臭設備

低（dī）溫等離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒（lì）子（zǐ）和廢氣中的汙染物作用（yòng），使汙染物分（fèn）子在短（duǎn）的時間內（nèi）發生分解，以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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產（chǎn）品概述
技術原理
性能優勢
適用範圍

產品概述 Product description

低溫等離子除臭設（shè）備是利用這些高能電（diàn）子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用，使汙染物分子在（zài）短的時（shí）間內發（fā）生分解，以（yǐ）達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

技術原理 technology principle

　　首先廢氣經（jīng）均流板過濾棉進入設備時，由設備高壓穩定高頻放電（diàn），瞬間產生1.5萬伏特至2萬（wàn）伏特（tè）高壓（yā），擊穿廢氣。此階段中，長鏈、多鏈廢（fèi）氣分子由於鍵能較（jiào）弱，約束（shù）力較小。很（hěn）容易被擊穿化學（xué）鍵破裂，從而變成小分子化合物（wù），此為第一階段淨化。

其次，隨廢氣（qì）進入設備的水分子、氧分子被高（gāo）壓擊穿斷裂，生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接（jiē）觸氧化，加快反應進程（chéng）。整個反應幹淨，能量利用率高（gāo），淨化效率非常高。

等離子（zǐ）功能段可以激發汙（wū）染物能量，促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組，使難處理的汙染物降解為較易處理（lǐ）的低碳汙染物。

等離子體化（huà）學反應過程 Plasma chemical reaction process

從等離子體反（fǎn）應過程（chéng）可以看出，電子先從電場獲得能（néng）量，通過激發或電離將能量轉移到（dào）汙染物分子中去，那些獲（huò）得能量的汙染物分子被激發，同時有部（bù）分分子（zǐ）被電離，從而（ér）成為活性基團（tuán）。然後這些（xiē）活性基（jī）團與氧氣、活性基（jī）團與活性基團之間相互碰撞後生（shēng）成穩定產物和熱。

另外，高能電（diàn）子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物（wù）質俘獲，成為（wéi）負離子。這類負離子具有很好的化學活性，在化學反應中起著重要的作（zuò）用。

性能優勢 Performance advantage

01

介質阻擋放電產生的（de）低溫等離子（zǐ）體中，電子能量高，幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;
02

反應快，不受氣速限製，氣阻小，工藝成熟；
03

采用防腐蝕材料，電極與廢氣不直接接（jiē）觸，根本（běn）上解決（jué）了設備腐蝕問題；
04

隻需用電，操作簡單，無需派專職人員（yuán）看守，基本不占用人工費；
05

設備啟動、停止十分迅速，隨用隨開，不受氣溫（wēn）的影響。

適用（yòng）範（fàn）圍 Scope of application

垃圾、汙水（shuǐ）廠等市政設施，以及製藥廠、油漆廠（chǎng）、塗料廠、皮革廠、石油化（huà）工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造（zào）紙廠、飼料加工廠等等工（gōng）業（yè）場所（suǒ）。

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